Leistungsstarke 105um 405nm 20W UV Fasergekoppelte Lasermodul für Lithographiegeräte

Dieses leistungsstarke 105 µm 405 nm 20 W violette fasergekoppelte Lasermodul ist eine professionelle Kernkomponente, die ausschließlich für Lithographiegeräte entwickelt wurde und die hochenergetische Photonencharakteristik des 405 nm violetten Lasers, die hohe Ausgangsleistung von 20 W und die 105 μm Präzisionsfaserkopplungsübertragung integriert. Es liefert stabile, fokussierte Laserenergie für die Fotolackbelichtung und Mikrostrukturierung und wird zu einem Schlüsselbestandteil in Halbleiter-, Leiterplatten- und mikroelektronischen Lithografiesystemen und gewährleistet eine hochauflösende, hocheffiziente Lithografieverarbeitung.

Technische Kernvorteile für Lithographiegeräte

- 405-nm-Violett-Wellenlängen-Lithographie-Optimierung: 405 nm ist die optimale Wellenlänge für gängige Fotolacke (positiver/negativer Farbton) und ermöglicht eine effiziente Photonenabsorption zum Auslösen fotochemischer Reaktionen. Der fasergekoppelte 405-nm-20-W-Laser unterstützt eine Auflösung im Submikrometerbereich bei der Lithografieverarbeitung und übertrifft längere Wellenlängen bei der Darstellung feiner Muster – entscheidend für die Herstellung von Halbleiter-Chiplets und hochdichten Leiterplattenschaltungen.

- 20 W hohe Leistung für schnelle Belichtung: Bei stabiler CW-Leistung beschleunigt die 20 W hohe Leistung die Fotolack-Belichtungsgeschwindigkeit um 40 % im Vergleich zu 10 W-Modulen. Es verkürzt die Belichtungszeit pro Flächeneinheit auf ≤ 50 ms/cm² und erfüllt so die hohen Durchsatzanforderungen von massenproduzierten Lithographiegeräten und gewährleistet gleichzeitig eine gleichmäßige Energieverteilung.

- Präzisionsübertragung mit 105 μm-Faserkopplung: Ausgestattet mit Quarzfaser mit 105 μm Kerndurchmesser (numerische Apertur NA = 0,22, Kopplungseffizienz ≥85 %), überträgt es Laserenergie mit minimalem Verlust. Der kleine Kern der Faser sorgt für einen fokussierten Strahlfleck für eine präzise Fotolackstrukturierung, und ihre Flexibilität ermöglicht die Ausrichtung auf den optischen Pfad der Lithographieausrüstung, wodurch schmale oder komplexe Belichtungsbereiche erreicht werden.

- Stabilität und Zuverlässigkeit auf Lithographie-Niveau: Verwendet ein Hochleistungs-Halbleiterlaser-Array und ein aktives Kühlsystem (Wasserkühlung + Kühlkörper) und sorgt so für einen stabilen Betrieb bei 20℃-25℃ (Lithographie-Prozesstemperatur). Es unterstützt eine kontinuierliche Belichtung rund um die Uhr (Lebensdauer > 1.000 Stunden) mit einer Leistungsdrift von ≤ 0,5 %/1.000 Stunden – wodurch eine durch Leistungsschwankungen verursachte Verzerrung des Lithografiemusters vermieden wird.